
Viden
Præcisions keramisk polering
Præcisionspolering af keramisk materiale med et højt præcisionskrav på Ra 0.025 μm er en kompleks og meget delikat forarbejdningsteknologi, der kræver integration af mekaniske, kemiske og præcise kontrolteknikker.
1. De centrale trin i poleringsprocessen er som følger:
(1) Forbehandling
Grovslibning og finslibning
Gradvis slibning udføres med diamant- eller siliciumcarbidslibeskiver (f.eks. fra #800 til #3000 korn), hvilket reducerer overfladeruheden til Ra 0.1-0.2 μm for at lægge grundlaget for polering.
Ultralydsrensning
Resterende slibepartikler fjernes ved hjælp af isopropylalkohol eller deioniseret vand for at forhindre ridser under efterfølgende polering.
(2) Poleringsstadie
Mekanisk polering (grov polering)
Udstyr: Polermaskine med variabel hastighed (100 - 500 rpm)
Poleringsmiddel: Diamantsuspension (1-3 μm partikelstørrelse) eller poleringsvæske af aluminiumoxid
Parametre : Tryk 20 - 50 kPa, tid 30 - 60 minutter, målruhed Ra 0.05 - 0.1 μm
Kemisk mekanisk polering (CMP, finpolering)
Poleringsvæske: Kolloidopløsning af nano-silica (SiO₂ ) eller ceriumoxid (CeO₂ ) (pH 10-12, fremmer overfladehydrolyse)
Polerpude: Porøs polyurethanpude (Shore D hårdhed 50 - 60)
Parametre: Hastighed 50 - 150 rpm, tryk 5 - 15 kPa, tid 1 - 2 timer, opnåelse af sub-nanometer planhed gennem den kombinerede virkning af kemisk ætsning og mekanisk slibning.
(3) Efterbehandling
Ultra-præcisions rengøring
Megasonic rensning (950 kHz) kombineres med plasmarensning for at fjerne adsorberet organisk materiale og nanopartikler fra overfladen.
Overfladepassivering
Oxygenplasmabehandling (300 W, 10 minutter) påføres aktiv keramik som siliciumnitrid for at danne et tæt oxidlag og forhindre kontaminering.
2. Nøgleteknisk parameterkontrol
Temperaturregulering
Poleringsvæskens temperatur skal stabiliseres ved 25 ± 0.5 ℃ . En for stor temperaturforskel kan forårsage termisk udvidelse og føre til afvigelser i overfladens nøjagtighed.
Vibrationsundertrykkelse
Udstyret skal installeres på en aktiv vibrationsisoleringsplatform (vibrationsfrekvens < 2Hz, amplitude < 50nm) for at undgå påvirkning af miljøvibrationer.
Trykensartethed
Et pneumatisk feedback-styringssystem er anvendt for at sikre trykudsving < ± 1%. For uregelmæssigt formede dele skal der designes en konform fikstur.
3. Inspektion og kvalitetskontrol
Ruhedsinspektion
Fempunktsmåling udføres ved hjælp af et hvidt lysinterferometer (vertikal opløsning 0.1 nm) eller et atomkraftmikroskop (AFM) med et prøvetagningsområde på 50 × 50 μm².
Inspektion af underjordiske skader
Kemisk ætsning (HF-opløsning i 5 minutter) kombineret med SEM-observation bruges til at sikre, at den underjordiske revnedybde er mindre end 50 nm.
Inspektion af overfladeplanhed
Et laserinterferometer ( λ /100 nøjagtighed) bruges til at inspicere planheden, med et krav om at PV-værdien er mindre end 0.1 μm.
4. Almindelige problemløsninger
Problem Fænomen Årsag Analyse Løsning
Polerstriber Tilstopning af polerpudens riller Brug en diamantkommode til at klæbe polerpuden hvert 30. minut
Kantkollaps Koncentration af kantspænding Brug kantkompenserende polering (reducer trykket i kantområdet med 20 %)
Overfladedugning Ophobning af nanoridser Tilsæt 0.1 % natriumdodecylbenzensulfonat (SDBS) til polervæsken for at forbedre smøringen
5. Avanceret teknologisk udvikling
Magnetic Fluid Finishing (MRF)
Den bruger magnetisk væske (carbonyljernpulver + nanodiamant) til at danne en fleksibel "poleringsform" i et magnetfelt, der er egnet til kompleks overfladebehandling og kan opnå en overfladeruhed på Ra 0.01 μm.
Ion Beam Polering
Det opnår fjernelse af Ar+-ioner på atomniveau gennem Ar+-ionsputtering (energi 500 eV, strålestrømstæthed 1 mA/cm² ) og bruges til bearbejdning af keramiske spejle i lasergyroskoper.
6. Økonomiske overvejelser
De traditionelle CMP-omkostninger er cirka 150 yuan per kvadratmeter, mens omkostningerne ved ionstrålepolering kan være så høje som 5,000 yuan per kvadratmeter. Valget af proces bør være baseret på anvendelsen af delene (såsom halvledere vs. optiske komponenter).
Vedtagelsen af et diamantpoleringsvæskegenvindingssystem kan reducere omkostningerne til forbrugsstoffer med 30 %.
Gennem den ovennævnte præcise kontrol og teknologiske innovation kan moderne præcisionskeramisk polering stabilt opnå en superglat overflade med en Ra på 0.025 μm , hvilket opfylder kravene fra banebrydende områder som inertial navigation og fotolitografiske maskinlinser. I den faktiske produktion anbefales det at etablere en DOE (Design of Experiments) model for at optimere kombinationen af forskellige parametre og implementere SPC (Statistical Process Control) for at sikre et udbytte på over 95%.
Vigor har mere end 18 års erfaring med støbegods, og vi ved, hvordan man undgår fejl i produktionen . Hvis du har spørgsmål eller ønsker til produktudvikling eller forbedring af din forsyningskæde, er du velkommen til at kontakte os på info@castings-forging.com

